Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024
Про збір коштів
пошук книг
книги
Пожертвування:
19.7% досягнуто
Увійти
Увійти
авторизованим користувачам доступні:
персональні рекомедації
Telegram бот
історія завантажувань
надіслати на Email чи Kindle
управління добірками
зберігання у вибране
Особисте
Запити на книги
Вивчення
Z-Recommend
Перелік книг
Найпопулярніші
Категорії
Участь
Підтримати
Завантаження
Litera Library
Пожертвувати паперові книги
Додати паперові книги
Search paper books
Відкрити LITERA Point
Пошук ключових слів
Main
Пошук ключових слів
search
1
Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren
Springer-Verlag Berlin Heidelberg
Dipl.-Ing. Walter Olbrich (auth.)
biasspannung
bild
pvd
iiberlagert
gepulsten
schicht
verfahren
schichten
teilchen
lonen
zeigt
substrat
pulsspannung
films
plasma
druck
ionen
spannung
bzw
wiihrend
mikrostruktur
deposition
erzeugt
oberfliiche
prozeb
somit
coatings
beschichtung
einsatz
kathode
stromdichte
surface
dutch
duty
elektronen
gepulste
ionenbeschub
abhiingigkeit
technology
beschichtungstemperatur
hohe
temperatur
abstand
sputtem
upuls
dargestellt
geschwindigkeit
iiber
ionenstromdichte
verdampfen
Рік:
1994
Мова:
german
Файл:
PDF, 3.67 MB
Ваші теги:
0
/
0
german, 1994
1
Перейдіть за
цим посиланням
або знайдіть бот "@BotFather" в Telegram
2
Надішліть команду /newbot
3
Вкажіть ім'я для вашого боту
4
Вкажіть ім'я користувача боту
5
Скопіюйте останнє повідомлення від BotFather та вставте його сюди
×
×